紫外光刻机及控制软件

时间:2018-10-11浏览:111设置

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性能指标*1.曝光类型:单面;*2.曝光面积:≥φ115mm*3.曝光不均匀性:≤±2.9%*4.曝光强度:≥20mw/cm2365nm波长纯净,照明面温度<35℃*5.分辨力:1.0μm(胶厚2μm的正胶);

主要应用多功能型X射线光电子能谱仪以XPS分析系统作为主机基本单元,可以兼容紫外光电子能谱(UPS)、离子散射谱(ISS)、无损深度分析等其它表面分析技术。适于各类具有粉末、薄膜、纤维和块体等不同形态的金属、非金属、半导体、氧化物和化合物、复合材料、纳米材料以及生物材料的表面几个原子层(110nm厚的表面)的化学组成、价态,深度剖析及成像、功函数特性等的分析与表征。

样品要求标注:刻蚀面积,线宽和厚度


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