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紫外光刻机及控制软件

发布部门:河南省表界面科学重点实验室  发布时间:2017-04-05 16:21:01.0  浏览量: 293

性能指标 *1. 曝光类型:单面; *2. 曝光面积:≥φ115mm; *3. 曝光不均匀性:≤±2.9%; *4. 曝光强度:≥20mw/cm2,365nm波长纯净,照明面温度<35℃; *5. 分辨力:1.0μm(胶厚2 μm的正胶);

主要应用 多功能型X射线光电子能谱仪以XPS分析系统作为主机基本单元,可以兼容紫外光电子能谱(UPS)、离子散射谱(ISS)、无损深度分析等其它表面分析技术。适于各类具有粉末、薄膜、纤维和块体等不同形态的金属、非金属、半导体、氧化物和化合物、复合材料、纳米材料以及生物材料的表面几个原子层(1~10nm厚的表面)的化学组成、价态,深度剖析及成像、功函数特性等的分析与表征。

样品要求 标注:刻蚀面积,线宽和厚度